Չժանգոտվող պողպատից փայլեցման մեթոդ

1. Մեխանիկական փայլեցում Մեխանիկական փայլեցումը հղկման մեթոդ է, որը հեռացնում է փայլեցված ուռուցիկ մասերը՝ կտրելով և նյութի մակերեսի պլաստիկ դեֆորմացմամբ՝ հարթ մակերես ստանալու համար:Ընդհանրապես, օգտագործվում են յուղաքարեր, բրդյա անիվներ, հղկաթուղթ և այլն, հիմնականում ձեռքով աշխատանք, և կարող են օգտագործվել հատուկ մասեր, ինչպիսիք են պտտվող մարմնի մակերեսը, օժանդակ գործիքներ, ինչպիսիք են պտտվող սեղանները, և կարող են օգտագործվել ծայրահեղ նուրբ հղկման և փայլեցման մեթոդներ: օգտագործվում է մակերեսի որակի բարձր պահանջների համար:Գերճշգրիտ հղկման և փայլեցման հատուկ հղկող գործիք է, որը սեղմվում է հղկիչ պարունակող հղկող և փայլեցնող հեղուկի մեջ մշակման ենթակա մշակման մակերեսի վրա և պտտվում է մեծ արագությամբ:Օգտագործելով այս տեխնոլոգիան՝ կարելի է հասնել Ra0.008μm մակերեսի կոշտությանը, որն ամենաբարձրն է փայլեցման տարբեր մեթոդների մեջ:Օպտիկական ոսպնյակների կաղապարները հաճախ օգտագործում են այս մեթոդը:
Ակնհայտ է, որ ընկերության կողմից վաճառվող կանեփի անիվները օգտագործվում են այս տեսակի փայլեցման համար, հիմնականում չժանգոտվող պողպատի միջին հղկման համար:
2. Քիմիական փայլեցում Քիմիական փայլեցումը թույլ է տալիս քիմիական միջավայրում նյութի միկրոսկոպիկորեն դուրս ցցված մասերին գերադասելիորեն լուծվել գոգավոր մասերի վրա՝ դրանով իսկ ստանալով հարթ մակերես:Այս մեթոդի հիմնական առավելությունն այն է, որ այն չի պահանջում բարդ սարքավորումներ, կարող է փայլեցնել աշխատանքային մասերը բարդ ձևերով և կարող է միաժամանակ փայլեցնել բազմաթիվ աշխատանքային մասեր՝ բարձր արդյունավետությամբ:Քիմիական փայլեցման հիմնական խնդիրը փայլեցնող հեղուկի պատրաստումն է:Քիմիական փայլեցման արդյունքում ստացված մակերեսի կոշտությունը սովորաբար մի քանի 10 մկմ է:
3. Էլեկտրոլիտիկ փայլեցում Էլեկտրոլիտիկ փայլեցման հիմնական սկզբունքը նույնն է, ինչ քիմիական հղկումը, այսինքն՝ ընտրովիորեն լուծելով նյութի մակերեսի մանր ելուստները՝ մակերեսը հարթ դարձնելու համար:Համեմատելով քիմիական փայլեցման հետ, կաթոդային ռեակցիայի ազդեցությունը կարող է վերացվել, և ազդեցությունը ավելի լավ է:Էլեկտրաքիմիական փայլեցման գործընթացը բաժանված է երկու փուլի՝ (1) լուծված արգասիքների մակրոսկոպիկ հարթեցում և էլեկտրոլիտի մեջ ցրում, նյութի մակերեսի երկրաչափական կոշտությունը նվազում է, և Ra>1 մկմ։(2) Անոդային բևեռացումը հարթվում է ցածր լույսի ներքո, և մակերեսի պայծառությունը բարելավվում է, և Ra<1մկմ.<br /> 4. Ուլտրաձայնային փայլեցման ժամանակ մշակված մասը տեղադրվում է հղկող կախոցի մեջ և միասին տեղադրվում ուլտրաձայնային դաշտում, իսկ հղկանյութը մանրացվում և հղկվում է աշխատանքային մասի մակերեսի վրա ուլտրաձայնային ալիքի տատանմամբ:Ուլտրաձայնային մշակման մակրոսկոպիկ ուժը փոքր է, և դա չի առաջացնի աշխատանքային մասի դեֆորմացիա, բայց դժվար է գործիքավորումը պատրաստել և տեղադրել:Ուլտրաձայնային հաստոցները կարող են համակցվել քիմիական կամ էլեկտրաքիմիական մեթոդների հետ:Լուծույթի կոռոզիայի և էլեկտրոլիզի հիման վրա կիրառվում է ուլտրաձայնային թրթռում լուծույթը խառնելու համար, որպեսզի մշակված մասի մակերեսի վրա լուծված արտադրանքները անջատվեն, իսկ մակերեսի մոտ կոռոզիան կամ էլեկտրոլիտը միատարր լինեն.Հեղուկի մեջ ուլտրաձայնային ալիքների կավիտացիան կարող է նաև արգելակել կոռոզիայի գործընթացը, ինչը նպաստում է մակերեսի պայծառությանը:
5. Հեղուկ փայլեցում Հեղուկ փայլեցումը հենվում է բարձր արագությամբ հոսող հեղուկի և դրա կողմից տեղափոխվող հղկող մասնիկների վրա՝ մաքրելու աշխատանքային մասի մակերեսը՝ փայլեցնելու նպատակին հասնելու համար:Սովորաբար օգտագործվող մեթոդներն են. հղկող ռեակտիվ մշակում, հեղուկ շիթային հաստոց, հիդրոդինամիկ հղկում և այլն: Հիդրոդինամիկ հղկումը պայմանավորված է հիդրավլիկ ճնշմամբ, այնպես որ հղկող մասնիկներ կրող հեղուկ միջավայրը փոխադարձաբար հոսում է աշխատանքային մասի մակերևույթով բարձր արագությամբ:Միջոցը հիմնականում պատրաստված է հատուկ միացություններից (պոլիմերանման նյութեր) ցածր ճնշման տակ լավ հոսողունակությամբ և խառնված հղկանյութերի հետ, իսկ հղկող նյութերը կարող են լինել սիլիցիումի կարբիդի փոշի։
6. Մագնիսական հղկում և փայլեցում Մագնիսական հղկում և փայլեցում մագնիսական հղկող նյութերի օգտագործումն է՝ մագնիսական դաշտի ազդեցության տակ հղկող վրձիններ ձևավորելու համար՝ աշխատանքային կտորները մանրացնելու համար:Այս մեթոդն ունի բարձր մշակման արդյունավետություն, լավ որակ, մշակման պայմանների հեշտ վերահսկում և լավ աշխատանքային պայմաններ:Հարմար հղկող նյութերի դեպքում մակերեսի կոշտությունը կարող է հասնել Ra0.1μm: